【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源，屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖，同時也激勵了國內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級，在國內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。真空鍍膜機(jī)故障解決方法？安徽離子束刻蝕射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因?yàn)橛辛诉@些工作，導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對設(shè)備的極限真空造成影響。此外，這些機(jī)械加工帶來的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來，成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一da主要因素。1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導(dǎo)致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強(qiáng)度有一定的損壞，對其測量的準(zhǔn)確性也有一定的影響；2、由于高溫蒸發(fā)，會使真空中的電子qiang的燈絲附近表面形成一層金屬膜；3、由于工件濺射，離子束刻蝕設(shè)備的內(nèi)壁會被濺散物所污染；4、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的內(nèi)壁會被其蒸鍍靶材材料污染；5、經(jīng)常使用真空干燥系統(tǒng)，該系統(tǒng)會受蒸發(fā)出來的物質(zhì)所污染；6、真空鍍膜設(shè)備中的擴(kuò)散泵油、機(jī)械泵油等更是一da主要污染來源，鍍膜機(jī)長期工作后，設(shè)備內(nèi)部可能會形成一層油膜。河南大直徑射頻離子源制造生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)是什么樣的？

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍，再關(guān)閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計(jì)測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)?！墩婵障到y(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的，比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過程中，要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測之前對容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會造成影響。

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴(kuò)散泵油，并裝回機(jī)體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機(jī)。真空鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。安徽離子束刻蝕射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

離子真空鍍膜機(jī)是什么？安徽離子束刻蝕射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同阻抗快速點(diǎn)火。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預(yù)判的技術(shù)；直流引入快速滅弧技術(shù)，同時提高了射頻和直流部分的穩(wěn)定性，軟件設(shè)置了自檢和自診斷功能，即：使用前系統(tǒng)自檢，使用中即時刷新，對非調(diào)整性輸入的變化提前警報(bào)并告知客戶做好預(yù)案。安徽離子束刻蝕射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

成都國泰真空設(shè)備有限公司是一家集生產(chǎn)科研、加工、銷售為一體的高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于2013-06-26，位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號。公司誠實(shí)守信，真誠為客戶提供服務(wù)。公司業(yè)務(wù)不斷豐富，主要經(jīng)營的業(yè)務(wù)包括：光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備等多系列產(chǎn)品和服務(wù)。可以根據(jù)客戶需求開發(fā)出多種不同功能的產(chǎn)品，深受客戶的好評。錦成國泰嚴(yán)格按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行生產(chǎn)研發(fā)，產(chǎn)品在按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測試完成后，通過質(zhì)檢部門檢測后推出。我們通過全新的管理模式和周到的服務(wù)，用心服務(wù)于客戶。在市場競爭日趨激烈的現(xiàn)在，我們承諾保證光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備質(zhì)量和服務(wù)，再創(chuàng)佳績是我們一直的追求，我們真誠的為客戶提供真誠的服務(wù)，歡迎各位新老客戶來我公司參觀指導(dǎo)。

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